答：研磨是光學(xué)玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護(hù)作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設(shè)備大致分為兩種：

第一種有機(jī)溶劑清洗采用的清洗流程如下：

1.清洗目的：

有機(jī)溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯乙烷屬ODS（消耗臭氧層物質(zhì)）產(chǎn)品，目前處于強(qiáng)制淘汰階段；而長期使用三氯乙烯易導(dǎo)致職業(yè)病，而且由于三氯乙烯很不穩(wěn)定，容易水解呈酸性，因此會腐蝕鏡片及設(shè)備。對此，國內(nèi)的清洗劑廠家研制生產(chǎn)了非ODS溶劑型系列清洗劑，可用于清洗光學(xué)玻璃；并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標(biāo)，可有效滿足不同設(shè)備及工藝條件的要求。比如在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過程中，鏡片表面有一層很難處理的漆片，要求使用具備特殊溶解性的有機(jī)溶劑；部分企業(yè)的清洗設(shè)備的溶劑清洗槽冷凝管較少，自由程很短，要求使用揮發(fā)較慢的有機(jī)溶劑；另一部分企業(yè)則相反，要求使用揮發(fā)較快的有機(jī)溶劑等。

2.清洗工藝：

有機(jī)溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。

第二種半水基清洗采用的清洗流程如下：

1.目的：

水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑對其清洗能力很弱，所以鏡片加工過程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的，故而對水基清洗劑提出了極高的要求。以前由于國內(nèi)的光學(xué)玻璃專用水基清洗劑品種較少，很多外資企業(yè)都選用進(jìn)口的清洗劑。而目前國內(nèi)已有公司開發(fā)出光學(xué)玻璃清洗劑，并成功地應(yīng)用在國內(nèi)數(shù)家大型光學(xué)玻璃生產(chǎn)廠，清洗效果完全可以取代進(jìn)口產(chǎn)品，在腐蝕性（防腐性能）等指標(biāo)上更是優(yōu)于進(jìn)口產(chǎn)品。

對于IPA慢拉干燥，需要說明的一點(diǎn)是，某些種類的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印，這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關(guān)，另一方面與清洗設(shè)備有較大的關(guān)系，尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好，需要設(shè)備廠家及用戶注意此點(diǎn)。

石英玻璃超聲波清洗機(jī)為一臺手動帶拋動功能及慢拉脫水功能的超聲波清洗機(jī)，其主要目的是清洗石英玻璃表面的粉塵、殘?jiān)�；本設(shè)備的系統(tǒng)裝置為：儲液槽（帶溫控控制及液位保護(hù)）、機(jī)械拋動裝置、噴淋裝置、過濾裝置、慢拉自動提升裝置等系統(tǒng)，使整臺機(jī)器完成一步到位的清洗，使工件達(dá)到普通清洗方法所達(dá)不到的清洗效果。

2.清洗工藝流程：

超聲波溶劑清洗---超聲波溶劑清洗---滴空槽---超聲波水溶劑清洗---超聲波水溶劑清洗---純水噴淋漂洗---超聲波熱純水漂洗---超聲波熱純水漂洗---超聲熱純水漂洗---超聲波熱純水漂洗---熱純水慢拉脫水

半水基石英玻璃清洗特點(diǎn)

1.配有加熱系統(tǒng):數(shù)字式溫度控制器,顯示溫度與實(shí)際溫度差在±5℃，要求30分鐘內(nèi)各槽達(dá)到設(shè)定溫度，必須配備儲液槽，帶溫控控制并有液位保護(hù)；

2.清洗籃拋動裝置：上下拋動每分鐘10-15次,拋動行程為50mm，拋動裝置需有防止產(chǎn)塵的措施。

3.槽底成漏斗狀排水完全，排水口接往總排水管。

4.噴淋方式采用垂直噴淋方式，方便工件取出，噴淋范圍可覆蓋到所有工件。

5.槽底成漏斗狀排水完全，排水口接往總排水管；除排水口外另加一個溶劑回收口。

6.槽內(nèi)設(shè)有溢流，由相對潔凈程度高的槽向下一槽溢流；槽體排液管采用易拆方式，并有濾網(wǎng)。

7.所有的過濾芯采用折疊式過濾芯，無污染；所有管道安裝前必須進(jìn)行清潔。

8.慢拉自動提升裝置：提升速度無極可調(diào)。自動程序時，慢速提升，快速下降，也可手動控制。

兩種清洗方式的比較：

1.溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點(diǎn)是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用；但缺點(diǎn)也比較明顯，由于光學(xué)玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設(shè)備時。

2.半水基清洗是近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝，它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎(chǔ)上進(jìn)行改進(jìn)而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點(diǎn)，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng)；設(shè)備上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長；在運(yùn)行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑最為突出的一個優(yōu)點(diǎn)就是對于研磨粉等無機(jī)污染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運(yùn)行成本。

光學(xué)鏡片超聲波清洗機(jī)

超聲波清洗與各種化學(xué)的、物理的、電化的和物化的清洗方法比較，具有以下獨(dú)特的優(yōu)點(diǎn)：

1.能快速、徹底地清除工件表面上的各種污垢。

2.能清洗帶有空腔、溝槽等形狀復(fù)雜的精密零件，對工件表面無損害。

3.可有效地降低污染，減少有毒溶劑對人體的損害。

4.可采用各種清洗劑，根據(jù)不同的溶劑達(dá)到不同的效果，如：除油、除銹或磷化。

5.大幅度降低勞動強(qiáng)度，杜絕隱患，如：節(jié)省溶劑、清潔紙、能源、工作場地和人工等。