答：研磨是光學玻璃生產(chǎn)中決定其加工效率和表面質(zhì)量（外觀和精度）的重要工序。研磨工序中的主要污染物為研磨粉和瀝青，少數(shù)企業(yè)的加工過程中會有漆片。其中研磨粉的型號各異，一般是以二氧化鈰為主的堿金屬氧化物。根據(jù)鏡片的材質(zhì)及研磨精度不同，選擇不同型號的研磨粉。在研磨過程中使用的瀝青是起保護作用的，以防止拋光完的鏡面被劃傷或腐蝕。研磨后的清洗設備大致分為兩種：

第一種有機溶劑清洗采用的清洗流程如下：

1.清洗目的：

有機溶劑清洗劑的主要用途是清洗瀝青及漆片。以前的溶劑清洗劑多采用三氯乙烷或三氯乙烯。由于三氯乙烷屬ODS（消耗臭氧層物質(zhì)）產(chǎn)品，目前處于強制淘汰階段；而長期使用三氯乙烯易導致職業(yè)病，而且由于三氯乙烯很不穩(wěn)定，容易水解呈酸性，因此會腐蝕鏡片及設備。對此，國內(nèi)的清洗劑廠家研制生產(chǎn)了非ODS溶劑型系列清洗劑，可用于清洗光學玻璃；并且該系列產(chǎn)品具備不同的物化指標，可有效滿足不同設備及工藝條件的要求。比如在少數(shù)企業(yè)的生產(chǎn)過程中，鏡片表面有一層很難處理的漆片，要求使用具備特殊溶解性的有機溶劑；部分企業(yè)的清洗設備的溶劑清洗槽冷凝管較少，自由程很短，要求使用揮發(fā)較慢的有機溶劑；另一部分企業(yè)則相反，要求使用揮發(fā)較快的有機溶劑等。

2.清洗工藝：

有機溶劑清洗劑（超聲波）-水基清洗劑（超聲波）-市水漂洗-純水漂洗-IPA（異丙醇）脫水-IPA慢拉干燥。

第二種半水基清洗采用的清洗流程如下：

1.目的：

水基清洗劑的主要用途是清洗研磨粉。由于研磨粉是堿金屬氧化物，溶劑對其清洗能力很弱，所以鏡片加工過程中產(chǎn)生的研磨粉基本上是在水基清洗單元內(nèi)除去的，故而對水基清洗劑提出了極高的要求。以前由于國內(nèi)的光學玻璃專用水基清洗劑品種較少，很多外資企業(yè)都選用進口的清洗劑。而目前國內(nèi)已有公司開發(fā)出光學玻璃清洗劑，并成功地應用在國內(nèi)數(shù)家大型光學玻璃生產(chǎn)廠，清洗效果完全可以取代進口產(chǎn)品，在腐蝕性（防腐性能）等指標上更是優(yōu)于進口產(chǎn)品。

對于IPA慢拉干燥，需要說明的一點是，某些種類的鏡片干燥后容易產(chǎn)生水印，這種現(xiàn)象一方面與IPA的純度及空氣濕度有關，另一方面與清洗設備有較大的關系，尤其是雙臂干燥的效果明顯不如單臂干燥的好，需要設備廠家及用戶注意此點。

石英玻璃超聲波清洗機為一臺手動帶拋動功能及慢拉脫水功能的超聲波清洗機，其主要目的是清洗石英玻璃表面的粉塵、殘渣；本設備的系統(tǒng)裝置為：儲液槽（帶溫控控制及液位保護）、機械拋動裝置、噴淋裝置、過濾裝置、慢拉自動提升裝置等系統(tǒng)，使整臺機器完成一步到位的清洗，使工件達到普通清洗方法所達不到的清洗效果。

2.清洗工藝流程：

超聲波溶劑清洗---超聲波溶劑清洗---滴空槽---超聲波水溶劑清洗---超聲波水溶劑清洗---純水噴淋漂洗---超聲波熱純水漂洗---超聲波熱純水漂洗---超聲熱純水漂洗---超聲波熱純水漂洗---熱純水慢拉脫水

半水基石英玻璃清洗特點

1.配有加熱系統(tǒng):數(shù)字式溫度控制器,顯示溫度與實際溫度差在±5℃，要求30分鐘內(nèi)各槽達到設定溫度，必須配備儲液槽，帶溫控控制并有液位保護；

2.清洗籃拋動裝置：上下拋動每分鐘10-15次,拋動行程為50mm，拋動裝置需有防止產(chǎn)塵的措施。

3.槽底成漏斗狀排水完全，排水口接往總排水管。

4.噴淋方式采用垂直噴淋方式，方便工件取出，噴淋范圍可覆蓋到所有工件。

5.槽底成漏斗狀排水完全，排水口接往總排水管；除排水口外另加一個溶劑回收口。

6.槽內(nèi)設有溢流，由相對潔凈程度高的槽向下一槽溢流；槽體排液管采用易拆方式，并有濾網(wǎng)。

7.所有的過濾芯采用折疊式過濾芯，無污染；所有管道安裝前必須進行清潔。

8.慢拉自動提升裝置：提升速度無極可調(diào)。自動程序時，慢速提升，快速下降，也可手動控制。

兩種清洗方式的比較：

1.溶劑清洗是比較傳統(tǒng)的方法，其優(yōu)點是清洗速度快，效率比較高，溶劑本身可以不斷蒸餾再生，循環(huán)使用；但缺點也比較明顯，由于光學玻璃的生產(chǎn)環(huán)境要求恒溫恒濕，均為封閉車間，溶劑的氣味對于工作環(huán)境多少都會有些影響，尤其是使用不封閉的半自動清洗設備時。

2.半水基清洗是近年來逐漸發(fā)展成熟的一種新工藝，它是在傳統(tǒng)溶劑清洗的基礎上進行改進而得來的。它有效地避免了溶劑的一些弱點，可以做到無毒，氣味輕微，廢液可排入污水處理系統(tǒng)；設備上的配套裝置更少；使用周期比溶劑要更長；在運行成本上比溶劑更低。半水基清洗劑最為突出的一個優(yōu)點就是對于研磨粉等無機污染物具有良好的清洗效果，極大地緩解了后續(xù)單元水基清洗劑的清洗壓力，延長了水基清洗劑的使用壽命，減少了水基清洗劑的用量，降低了運行成本。

光學鏡片超聲波清洗機

超聲波清洗與各種化學的、物理的、電化的和物化的清洗方法比較，具有以下獨特的優(yōu)點：

1.能快速、徹底地清除工件表面上的各種污垢。

2.能清洗帶有空腔、溝槽等形狀復雜的精密零件，對工件表面無損害。

3.可有效地降低污染，減少有毒溶劑對人體的損害。

4.可采用各種清洗劑，根據(jù)不同的溶劑達到不同的效果，如：除油、除銹或磷化。

5.大幅度降低勞動強度，杜絕隱患，如：節(jié)省溶劑、清潔紙、能源、工作場地和人工等。